Grupos Protectores

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Grupos Protectores

• Randolph Alonso

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• Formation
• 1. Me2SO4, NaOH, Bu4NI-, Organic Solvent 60-90
• 2. MeI or Me2SO4, NaH or KH, THF
• 3. CH2N2, Silica gel, 0-10 oC, 100 yield

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• 4. MeI, Solid KOH, DMSO, 20o, 5-30 min., 85.
  Ref. T. Nakata, Tetrahedron lett., 26, 6461
  (1985)
• 5. Debido al incremento de la acidez y un
  reducido requerimiento estérico del carbohydrato
  hydroxilo, t-BuOK puede usarse como una base

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• 6. Me2SO4, DMSO, DMF, Ba(OH)2, BaO, rt. 18h, 98
• Remoción
• 1. MeSiI, CHCl3, 25oC, 6h, 95
• 2. BBr3, NaI, 15 crown-5
• Methyl Ester no son removidos

5

• 3. BBr3. ETOAC, 1h, 95, o BBr3, CH2Cl2, ?
• 4. BF3?ET2O, HSCH2-CH2-SH, HCl, 15 h, 82
• 5.

6

• Metoximetil Eter CH3OCH2-OR
• 1. CH3OCH2-Cl, NaH, THF, 80
• Mono MOMO Derivados de Dioles

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• Remoción
• 1. Cat.HCl, MeOH, 62oC, 15 min.
• 2. 6M HCl, THF, 50oC, 95

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• Tetrahydropirano Ether (THP-OR)
• Dihydropirano, TsOH, CH2Cl2. 2oC
• Remoción
• Explosión ocurre cuando se destila

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• t-butil Éter
• Puede ser preparado con varios alcoholes
  incluyendo alcoholes alílicos.
• El éter es estable, excepto frente a los ácidos.
• Isobutilene, BF3ET2O, H3PO4, 100
• Remoción
• N2, CF3COOH, 0-20o, 1-16 h, 80-90

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• Benzyl Ether (Br-OR) PhCH2-O-R
• 1. BnCl, KOH, 140oC, 86
• 2. BnCl, Bu4NHSO4-, 50 KOH, Benzene.
• 3. NaH, THF, BnBr, Bu4NI- 20o, 3h, 100

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• Remoción
• 1. H2/Pd-C, EtOH, 95 Pdlt, J. Org. Chem., 29,
  3725, 1964.
• 2. Raney Nickel W4, EtOH, H2
• 3. NaNH3, 15 seg., 97

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Phenyl benzyl Ether p-C6H5-C6H4-CH2-OR /
NaH Remoción Pd/C H2 / EtOAc 52 Ref. Am Chem.
Soc, 113, 6320, 1991.
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• Trimetil Silano Éter (TMS-OR)
• Formación Me3SiCl, Et3N, THF, 25o, 8h, 90
• Remoción
• 1. Bu4NF-, THF, Conditions Apróticas.
• 2. K2CO3, MeOH Anhydrous, 0oC 100oC

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• Trietilsilano (TES-OR) Et3SiOR
• Et3SiCl, Pyr
• Remoción 2 HF o HF/Pyr.
• t-Butil Dimethylsilylether TBDMS-OR
  (t-BuMe2-SiOR)
• TBDMS-Cl, Imidazole, DMF, 25oC, 10h, ?

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(No Transcript)
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• Remoción
• Bu4NF-, THF, 25oC, 1h gt 90 yield
• El ión Fluoruro es muy básico, especialmente en
  condiciones anhidras.
• Ésta puede ser controlada con la adición de ácido
  acético.
• Comercial 1 TBAF, contiene H2O, ?
  rendimiento
• Molecular Sieve 2.3
• 2 KF, 18-Crow-6

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• Remoción selectivo de R-OH Primarios en presencia
  de Secundarios.
• o Ácido Trifluoroacético, H2O, CH2Cl2, (91), rt,
  96h

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• R TBDMS o TBDPS

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• El TBDPS-OR (t-BuPh2-Si-O-R)
• 100 gt más estable TBDMS
• El TBDPS lt estable frente a una base que TBDMS
• K2CO3/MeOH
• 9M MH4OH 60oC
• Estable
• 80 ACOH que cliva a
  TBDMS
• HBr/AcOH

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• Formación
• TBDPSi-Cl, Imidazol, DMF, rt
• Remueve con Bu4NF-, THF, 25oC, 1-5h, 90
• Py, HF, THF
• LiAlH4 en algunos casos puede remover

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• Tricloro acetato
• Formación Cl3C-COCl, Py, DMF, 20oC, 2 días, 87
• Remoción, NH3, EtOH, CGCl3, 6h, 81
• Es selectivo en presencia de acetato

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• Éster Benzoate (Bz-OR) PhCO2-R
• El Éster de Benzoato es uno de los más comunes
  ésteres usados para protección de alcoholes,
• gt estables que acetatos
• Formación BzCl o Bz2O, Py, 0oC Benzoilchloride /
  CH2Cl2

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• Remoción selectiva

T.L. 35, 9717, 1994
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• Metilen Acetal
• 1. 40 CH2O, conc. HCl, 50oC, 4 días
• 2. Paraformaldehido, H2SO4, AcOH, 90oC, 1 h.
• 3. (MeO)2CH2, lutidine
• 4. CH2Br2, KOH, DMSO, rt, 49

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• Remoción
• 1. BCl3, CH2Cl, -80oC, 30 min.
• 2. HF, EtOH, THF, 0-5oC, 14h

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• Ethylidiene Acetal
• CH3CHO, CH3CH(OMe)2 o Paraldehyde, H2SO4/
  TsOH, H2O, THF, 72.

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• Acetonida (Isopropylidena Cetal)
• Más comúnmente utilizado en 1,2 diol.

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• Isomerización
• Remoción
• 1. 1N HCl, TFH
• 2. 2N HCl, 80o, 6h
• 3.BCl3, Et2O
• CF3CO2, THF, H2O, 83

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• Ethoxietilene HC(OMe)3 o HC(OEt)3, Ácido
  catalítico.
• Remoción 98 Ácido Fórmico, HCl

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• Metil Éter
• Formación
• 1. MeI, K2CO3, Cetona , Reflux, 6h
• 2. Me2SO4, NaOH, EtOH, reflux, 3h
• 3. LiCO3, MeI, DMF, 55oC, 18h, 54-90

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• Diazometano, Éter, 80

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• Remoción
• 1. Me3SiI, CHCl3, 25oC, 72
• 2. K, Tolueno, 18crow-6, 100
• 3. Sodio Benzylselenide PhCH2SeNa o
• sodio Tiocresolato pCH3-Ph C6H4SNa en DMF
• Reflux

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J prakt. Chem / Chem Ztg., 337, 405, 1995
Remoción
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(No Transcript)
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Remoción, H2 / Pd/ C / Ac2O
36
ArOSO2C6H4-p-CH3
Remoción KOH, H2O, EtOH
37
Acetato de Metileno Formación CH2Br, NaOH,76
BrCH2Cl, DMF, CsCO3, 86 Remoción AlBr3, CH3SCH3,
BCl3,CH3SCH3,83, 98
Carbonato Cíclico
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MeOH, HCl seco, 2 min.
MeOH, MH4Cl, reflux, 1.5 h, 66
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(No Transcript)
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Remoción pyridium tosilato (PPTS), Cetona, Agua,
calor, 100 5 HCl, THF, 25o, 20 h.
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t-C4H9OCO-NRCO- Formación (BOC)2O, Et3N, DMAP,
25o C, 15h, 78-96 BuLi, (BOC)2O Remoción
MeONa, LiOH, NH2NH2, TMSOTf, CH2Cl2