ACF - Vortrag

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• ACF - Vortrag
• "Herstellungsverfahren von dünnen Schichten"
• von Sven Wiegand

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Verfahren zur Herstellung dünner Oberflächen

• Gliederung
• 1. Übersicht über Beschichtungsverfahren
• 2. PVD - Verfahren
• 3. CVD - Verfahren
• 4. Fazit Vor- und Nachteile der Verfahren

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Verfahren zur Oberflächenbeschichtung
Physical Vapor Deposition, K. Bobzin, E.
Lugscheider, A. Krämer, RWTH Aachen
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Beispiele für Schichten
www.fgb.mw.tum.de/Lehre/Mikrotechnische_
SensorikAktorik/WS05/05_Vorlesung_MSA.pdf
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(No Transcript)
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PVD - Verfahren
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PVD-Varianten
Delmdahl, Physik Journal 4 (2005), Nr. 11
Physical Vapor Deposition, K. Bobzin, E.
Lugscheider, A. Krämer, RWTH Aachen
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Molekularstrahlepitaxie (MBE)
T 580 C p 10-11 Torr
Dissertation Sven Beyer "Herstellung und
Charakterisierung niedrigdimensionaler
Elektronensysteme mit Hilfe von in situ Ätzen und
Molekularstrahl Epitaxie", Hamburg
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PVD
Dünnschichttechnologie 1, http//www.iws.fhg.de
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Thornton-Zonen
Dissertation Yvette Dietzel, "Beschichtung von
textilen Flächen mit den PVD-Technologien
reaktives Vakuumbogen-Verdampfen und reaktives
Magnetron-Sputtern", TU-Dresden
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PVD-Anwendung Uhrenbeschichtung
1 - Ein Uhrgehäuse aus rostfreiem Stahl kommt in
die PVD-Kammer 2 - Die Kammer wird auf 10 bis 6
mbar evakuiert 3 - Argon wird in die Kammer
eingelassen und mit einer elektrischen Entladung
von mehreren tausend Volt ionisiert 4 - Die
positiv geladenen Argonionen beschießen eine
negativ geladene Titanplatte 5 - Die durch den
Beschuss freigesetzten Ti-Atome werden durch das
polarisierte Gehäuse angezogen 6 - Stickstoff
wird zusätzlich in die Kammer geführt und
verbindet sich mit den Titanatomen das
entstehende TiN überzieht das Gehäuse mit einer
0,7 bis 1,0 Mikrometer starken Schicht 7 -
Ebenfalls unter Vakuum wird eine 0,15 bis 0,3
Mikrometer starke Goldschicht aufgedampft 8 - Das
beschichtete Uhrengehäuße verläßt die Kammer
www.longines.com
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TiN-beschichtete Werkstücke
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Chemical vapour deposition CVD
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CVD - Reaktionen
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Chemical vapour deposition CVD
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Chemical vapour deposition CVD
Dünnschichttechnologie 1, http//www.iws.fhg.de
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LPCVD
www.fgb.mw.tum.de/Lehre/Mikrotechnische_
SensorikAktorik/WS05/05_Vorlesung_MSA.pdf
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CVD

• PECVD (Plasma enhanced chemical vapor
  deposition)
• mittels eines Plasmas werden die chemischen
  Reaktionen initiiert
• Vorteil geringere Temperaturen als bei einer
  normalen CVD (ca. 400 - 500 C)

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Epitaktisches Wachstum
www.fgb.mw.tum.de/Lehre/Mikrotechnische_
SensorikAktorik/WS05/05_Vorlesung_MSA.pdf
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CVD - Anwendung
Dünnschichttechnologie 1, http//www.iws.fhg.de
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Unterschiede zwischen PVD und CVD
CVD
PVD

• CVD-Schichten bedecken die Oberfläche
  gleichmäßig, bei PVD-Beschichtungsverfahren kommt
  es wegen der gerichteten Flugbahn der Teilchen
  bei dreidimensionalen Oberflächen zu
  ungleichmäßiger Beschichtung ("Sichtlinien-Problem
  ")

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Physical Vapor Deposition, K. Bobzin, E.
Lugscheider, A. Krämer, RWTH Aachen
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(No Transcript)
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(No Transcript)